| 利用有效媒质理论对纳米金属薄膜介电函数的初步分析 |
| 杜昊,肖金泉,谭明晖,孙超,黄荣芳,闻立时
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| 2000-11-18
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| 发表期刊 | 金属学报
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| 期号 | 11页码:1165-1168 |
| 摘要 | 利用有效媒质理论描述了纳米金属薄膜形成过程中介电函数的变化规律．与实验获得的纳米 Ａｌ和 Ｔｉ薄膜形成过程中 的介电函数变化结果相接近 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015
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| 关键词 | 纳米薄膜
介电函数
有效媒质理论
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27133
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
杜昊,肖金泉,谭明晖,孙超,黄荣芳,闻立时. 利用有效媒质理论对纳米金属薄膜介电函数的初步分析[J]. 金属学报,2000(11):1165-1168.
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| APA |
杜昊,肖金泉,谭明晖,孙超,黄荣芳,闻立时.(2000).利用有效媒质理论对纳米金属薄膜介电函数的初步分析.金属学报(11),1165-1168.
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| MLA |
杜昊,肖金泉,谭明晖,孙超,黄荣芳,闻立时."利用有效媒质理论对纳米金属薄膜介电函数的初步分析".金属学报 .11(2000):1165-1168.
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