| ZnO:Al薄膜的组织结构与性能 | |
| 裴志亮,谭明晖,杜昊,陈猛,孙超,黄荣芳,闻立时 | |
| 2000-10-25 | |
| Source Publication | 材料研究学报
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| Issue | 5Pages:538-542 |
| Abstract | 用直流磁控反应溅射合金靶制备了ＺｎＯ薄膜，研究了衬底温度和退火温度对薄膜的结构及电学和光学性能的影响．衬底温度升高能改善薄膜的电学特性，其原因是薄膜晶粒尺寸的增大温度升高导致薄膜基本光学吸收边向短波移动，但对高透射区（４５０～８５０ｎｍ）的透射率影响不大． |
| description.department | 中国科学院金属研究所!沈阳市110015,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 |
| Keyword | Zno 薄膜 温度 光学吸收边 透射率 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27158 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 裴志亮,谭明晖,杜昊,陈猛,孙超,黄荣芳,闻立时. ZnO:Al薄膜的组织结构与性能[J]. 材料研究学报,2000(5):538-542. |
| APA | 裴志亮,谭明晖,杜昊,陈猛,孙超,黄荣芳,闻立时.(2000).ZnO:Al薄膜的组织结构与性能.材料研究学报(5),538-542. |
| MLA | 裴志亮,谭明晖,杜昊,陈猛,孙超,黄荣芳,闻立时."ZnO:Al薄膜的组织结构与性能".材料研究学报 .5(2000):538-542. |
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