Al_2O_3陶瓷表面的准分子激光活化沉积金属Cu技术

IMR OpenIR

	Al_2O_3陶瓷表面的准分子激光活化沉积金属Cu技术
	武颖娜,梁勇,冯钟潮
	2000-10-15
发表期刊	激光杂志
期号	5 页码:43-44
摘要	本文研究了通过XeCl准分子激光照射Al2 O3陶瓷表面后 ,使其表面沉积金属Cu的技术。实验结果表明 ,Al2 O3试样浸入Cu2 SO4 溶液后 ,金属Cu膜只沉积于激光照射区。经准分子激光照射 ,Al2 O3 表面结构的变化和Al富集区的产生是金属Cu沉积的主要原因。
部门归属	中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015
关键词	准分子激光 Al_2o_3 Cu膜 Al富集区
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27172
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	武颖娜,梁勇,冯钟潮. Al_2O_3陶瓷表面的准分子激光活化沉积金属Cu技术[J]. 激光杂志,2000(5):43-44.
APA	武颖娜,梁勇,冯钟潮.(2000).Al_2O_3陶瓷表面的准分子激光活化沉积金属Cu技术.激光杂志(5),43-44.
MLA	武颖娜,梁勇,冯钟潮."Al_2O_3陶瓷表面的准分子激光活化沉积金属Cu技术".激光杂志 .5(2000):43-44.