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ITO薄膜的XPS和AES研究
陈猛,裴志亮,白雪冬,黄荣芳,闻立时
2000-04-25
发表期刊材料研究学报
期号2页码:173-178
摘要分别用 XPS和 AES分析了ITO薄膜真空退火前后各元素化学状态的变化和深度分布情况.研究表明,退火前后Sn和In处于各自相同的化学状态中.O以氧充足和氧缺乏两种化合状态存在,其结合能值分别为(529.90±0.30)eV和(531.40±0.20)eV.氧缺位状态主要分布在薄膜表层各元素在薄膜体内分布均匀而在膜基界面存在金属富集
部门归属中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
关键词化学状态 光电子能谱 俄歇电子能谱 Gauss拟合
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27279
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
陈猛,裴志亮,白雪冬,黄荣芳,闻立时. ITO薄膜的XPS和AES研究[J]. 材料研究学报,2000(2):173-178.
APA 陈猛,裴志亮,白雪冬,黄荣芳,闻立时.(2000).ITO薄膜的XPS和AES研究.材料研究学报(2),173-178.
MLA 陈猛,裴志亮,白雪冬,黄荣芳,闻立时."ITO薄膜的XPS和AES研究".材料研究学报 .2(2000):173-178.
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