| 高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响 |
| 郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂
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| 1999-02-25
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| 发表期刊 | 材料研究学报
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| 期号 | 1页码:73-75 |
| 摘要 | 采用高密度单脉冲电流（SHCDE）处理H62，针对其力学性能的变化，从理论上计算了处理后所产生的温升，分析了高密度脉冲电流对材料的影响所导致的电致塑性． |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所!中国科学院国际材料物理中心,中国科学院金属研究所!中国科学院国际材料物理中心
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| 关键词 | 脉冲电流
延伸率
位错
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27535
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂. 高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响[J]. 材料研究学报,1999(1):73-75.
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| APA |
郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂.(1999).高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响.材料研究学报(1),73-75.
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| MLA |
郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂."高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响".材料研究学报 .1(1999):73-75.
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