| TiN类薄膜的激光化学气相沉积 |
| 张鸿俭,冯钟潮,张鹤
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| 1999-01-30
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| 发表期刊 | 兵器材料科学与工程
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| 期号 | 1页码:41-44 |
| 摘要 | 研究了激光化学气相沉积的方法在Ｔｉ和Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ基材上沉积ＴｉＮ、ＴｉＣ、 Ｔｉ（Ｃｎ、Ｎｍ）薄膜的工艺方法，并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 （ＬＣＶＤ）方法制备成功的ＴｉＮ类薄膜颜色金黄，成份均匀，其平均显微硬度为ＨＫ２５００，耐磨 性比基材提高了六倍。 |
| 部门归属 | 沈阳工业学院,中科院金属研究所,首都航天机械公司波纹管厂
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| 关键词 | Tin类薄膜
钛合金
激光化学气相沉积
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27551
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张鸿俭,冯钟潮,张鹤. TiN类薄膜的激光化学气相沉积[J]. 兵器材料科学与工程,1999(1):41-44.
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| APA |
张鸿俭,冯钟潮,张鹤.(1999).TiN类薄膜的激光化学气相沉积.兵器材料科学与工程(1),41-44.
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| MLA |
张鸿俭,冯钟潮,张鹤."TiN类薄膜的激光化学气相沉积".兵器材料科学与工程 .1(1999):41-44.
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