激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构

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	激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构
	张炳春,李梅,王亚庆,冯钟潮
	1998-12-15
发表期刊	材料研究学报
期号	6 页码:663-664
摘要	运用XRD、EPMA、TEM等手段分析在Ti—6Al—4V基材上用激光化学气相反应生长的Ti（C，N）薄膜的成分、结构、显微组织可在基材表面形成大面积均匀的Ti（C，N）膜层，为无明显择优取向的等轴纳米晶，其中有少量的Ti2N相，且Al、V含量低于基材。
部门归属	中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
关键词	激光 Ti（c 化学气相反应生长薄膜 N）
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27581
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张炳春,李梅,王亚庆,冯钟潮. 激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构[J]. 材料研究学报,1998(6):663-664.
APA	张炳春,李梅,王亚庆,冯钟潮.(1998).激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构.材料研究学报(6),663-664.
MLA	张炳春,李梅,王亚庆,冯钟潮."激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构".材料研究学报 .6(1998):663-664.