| 脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜 |
| 赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇
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| 1998-11-15
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| 发表期刊 | 传感技术学报
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| 期号 | 4页码:78-82 |
| 摘要 | 本文研究了脉冲激光溅射镀膜技术沉积WO_3基片在室温下,沉积的WO_3膜部分晶化并部分还原.经热处理,在450℃左右膜层开始晶化,最后形成三斜晶系的WO_3晶化后颗粒在几十到几百纳米之间.本技术沉积的WO_3膜对NO_2气体有非常好的气敏性能,可检测0.1×10~(-6)量级的NO_2气体.WO_3膜的灵敏度随温度降低而增大,但同时响应时间和恢复时间增长.同其它制备技术相比,本技术沉积的WO_3膜显著提高了响应性能:响应时间和恢复时间,它们分别为30_s和70_s. |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015,中国科学院金属研究所!沈阳110015
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| 关键词 | 气体传感器
脉冲激光溅射镀膜
Wo_3膜
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27590
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇. 脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜[J]. 传感技术学报,1998(4):78-82.
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| APA |
赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇.(1998).脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜.传感技术学报(4),78-82.
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| MLA |
赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇."脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜".传感技术学报 .4(1998):78-82.
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