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分子束外延生长GaN薄膜中的一种早期位错结构
王绍青,刘全朴,叶恒强
1998-11-12
发表期刊物理学报
期号11页码:99-102
摘要利用高分辨电子显微术,对在GaP基体上由分子束外延生长六角GaN晶体薄膜中的晶体缺陷结构进行了研究.实验中发现了GaN薄膜外延生长过程中产生的一种典型早期刃型位错结构.此晶体缺陷位于一大块GaN晶粒内部,其外观类似于一段(1120)晶界.它由一条(1120)高能孤立晶界段及其两端的两个1/6[1120]不完全刃型位错组成.从大晶格失配材料之间分子束外延生长的机理上对这种缺陷结构的形成进行了解释.
部门归属中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室,英国剑桥大学材料科学与冶金学系
关键词外延生长:6883 Gan薄膜:3266 分子束外延:3157 原子像:2762 晶体缺陷:2559 高分辨率电子显微镜:2280 位错结构:2195 缺陷结构:1988 刃型:1409 电子显微术:1354
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27594
专题中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
王绍青,刘全朴,叶恒强. 分子束外延生长GaN薄膜中的一种早期位错结构[J]. 物理学报,1998(11):99-102.
APA 王绍青,刘全朴,叶恒强.(1998).分子束外延生长GaN薄膜中的一种早期位错结构.物理学报(11),99-102.
MLA 王绍青,刘全朴,叶恒强."分子束外延生长GaN薄膜中的一种早期位错结构".物理学报 .11(1998):99-102.
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