获得表面非晶层的高能束熔凝处理方法 | |
胡传顺,陈晓风 | |
1998-08-15 | |
发表期刊 | 中国表面工程
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期号 | 3页码:35-37+50 |
摘要 | 综述了现代激光束和电子束表面快速熔凝处理的有关理论;对比了激光和电子束与材料表面热作用的差异及熔换层试样制备的几种方法的优劣:论述了功率密度、扫描速度和光束处理方式对表面快速熔凝处理的影响。 |
部门归属 | 中国科学院金属研究所!沈阳市文化路72号110025中科院金属研究所11室,中国科学院金属研究所!沈阳市文化路72号110025中科院金属研究所11室 |
关键词 | 高能束 快速熔凝 非晶层 工艺因素 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27651 |
专题 | 中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡传顺,陈晓风. 获得表面非晶层的高能束熔凝处理方法[J]. 中国表面工程,1998(3):35-37+50. |
APA | 胡传顺,陈晓风.(1998).获得表面非晶层的高能束熔凝处理方法.中国表面工程(3),35-37+50. |
MLA | 胡传顺,陈晓风."获得表面非晶层的高能束熔凝处理方法".中国表面工程 .3(1998):35-37+50. |
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