| Al-CuAl_2共晶层片间距的数值模拟 |
| 张伟强,杨院生,胡壮麒
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| 1998-01-18
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| 发表期刊 | 金属学报
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| 期号 | 1页码:1-6 |
| 摘要 | 本文根据层片状共晶生长理论，利用时间相关模型对存在对流作用的Al-CuAl2共晶层片间距进行数值求解最小和最大层片间距（λo和λmax）的计算结果与实验结果符合较好，熔体的流动使Al-CuAl2共晶稳态生长的层片间距增加；当层片间距超过λmax时，层片组织处于非稳态：共晶生长速率越低，液相流动的影响越大 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所快速凝固及非平衡合金国家重点实验室!沈阳,110015,中国科学院金属研究所快速凝固及非平衡合金国家重点实验室!沈阳,110015,中国科学院金属研究所快速凝固及非平衡合金国家重点实验室!沈阳,110015
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| 关键词 | 共晶
层片间距
流动
稳定性
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27758
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张伟强,杨院生,胡壮麒. Al-CuAl_2共晶层片间距的数值模拟[J]. 金属学报,1998(1):1-6.
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| APA |
张伟强,杨院生,胡壮麒.(1998).Al-CuAl_2共晶层片间距的数值模拟.金属学报(1),1-6.
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| MLA |
张伟强,杨院生,胡壮麒."Al-CuAl_2共晶层片间距的数值模拟".金属学报 .1(1998):1-6.
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