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纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结
李亚利,梁勇,佟百运,郑丰,马贤峰,崔硕景,赵伟
1997-10-25
Source Publication材料研究学报
Issue5Pages:473-478
Abstract用六面顶超高压在1.0-5.0GPa,25~1500℃条件下烧结激光法制备的纳米非晶Si3N4粉,有“冷烧结”特代表现为:在5GPa,室温下压制的块体密度达理论值的93%,这是高压下纳米粒子产生流变的结果当烧结温度较低(800~950℃)时,高压烧结体为棕色透明的致密(98%)纳米非晶块体;烧结温度较高(1300~1500℃)时,形成纯白色致密纳米晶Si3N4块体,硬度为15.53~1605GPa研究表明,超高压烧结纳米陶瓷粉可显著降低烧结温度,控制晶粒生长,是获得致密纳米材料的有效途径
description.department中国科学院金属研究所微晶与激光加工研究室!沈阳市,110015,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
Keyword纳米陶瓷 Si_3n_4 非晶 超高压 烧结
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27797
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
李亚利,梁勇,佟百运,郑丰,马贤峰,崔硕景,赵伟. 纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结[J]. 材料研究学报,1997(5):473-478.
APA 李亚利,梁勇,佟百运,郑丰,马贤峰,崔硕景,赵伟.(1997).纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结.材料研究学报(5),473-478.
MLA 李亚利,梁勇,佟百运,郑丰,马贤峰,崔硕景,赵伟."纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结".材料研究学报 .5(1997):473-478.
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