| 直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术 |
| 胡运明,陈道伦,苏会和,王中光
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| 1997-06-25
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| 发表期刊 | 材料研究学报
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| 期号 | 3页码:240-244 |
| 摘要 | 介绍了扫描电镜（SEM）电子通道衬度（ECC）技术．该技术可以很好地观察材料中位借结构，用这种技术观察受循环载荷作用的铜单晶中的典型位错结构，与常规的TEM方法观察结果基本一致． |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
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| 关键词 | 扫描电镜
电子通道衬度技术
铜单晶体
位错结构
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27843
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
胡运明,陈道伦,苏会和,王中光. 直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术[J]. 材料研究学报,1997(3):240-244.
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| APA |
胡运明,陈道伦,苏会和,王中光.(1997).直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术.材料研究学报(3),240-244.
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| MLA |
胡运明,陈道伦,苏会和,王中光."直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术".材料研究学报 .3(1997):240-244.
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