| 薄膜厚度的电子探针测量软件与应用 |
| 尚玉华,郭延风,刘志东,徐乐英
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| 1997-04-18
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| 发表期刊 | 金属学报
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| 期号 | 4页码:443-448 |
| 摘要 | 利用Sewell的X射线激发深度公式建立起用电子探针测量有衬底纯元素薄膜厚度的应用软件；测量了Ti，Cu，Mo等四种厚度的薄膜标样的质量厚度，并对测量误差进行分析；最后给出了各种纯元素薄膜厚度的测量下限． |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所!沈阳，110015,中国科学院金属研究所!沈阳，110015,中国科学院金属研究所!沈阳，110015,中国科学院金属研究所!沈阳，110015
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| 关键词 | 电子探针
金属薄膜
质量厚度
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27876
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
尚玉华,郭延风,刘志东,徐乐英. 薄膜厚度的电子探针测量软件与应用[J]. 金属学报,1997(4):443-448.
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| APA |
尚玉华,郭延风,刘志东,徐乐英.(1997).薄膜厚度的电子探针测量软件与应用.金属学报(4),443-448.
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| MLA |
尚玉华,郭延风,刘志东,徐乐英."薄膜厚度的电子探针测量软件与应用".金属学报 .4(1997):443-448.
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