| 稳态层片共晶长生模型——Ⅰ.理论分析 |
| 姚向东,黄韬,周尧和,胡壮麒
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| 1996-12-15
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| 发表期刊 | 自然科学进展
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| 期号 | 6页码:44-49 |
| 摘要 | 修正了JH经典模型关于平界面生长假设,建立新的层片共晶生长模型。应用严格的界面曲率数学公式,数值计算界面过冷度普适性方程,获得正确的共晶生长界面形态。并计算了稳态相间距选择极限,表明层片共晶生长存在稳态间距选择范围,随生长速度增大,选择范围越来越尖锐。最小相间距λ_m和JH及Trivedi模型结果一致,而最大相间距λ_M则不遵循上述经典模型。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,西北工业大学凝固技术国家重点实验室,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 沈阳 110015,西安 710072,沈阳 110015,沈阳 110015
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| 关键词 | 稳态共晶生长
相间距选择
界面过冷度方程
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27945
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
姚向东,黄韬,周尧和,胡壮麒. 稳态层片共晶长生模型——Ⅰ.理论分析[J]. 自然科学进展,1996(6):44-49.
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| APA |
姚向东,黄韬,周尧和,胡壮麒.(1996).稳态层片共晶长生模型——Ⅰ.理论分析.自然科学进展(6),44-49.
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| MLA |
姚向东,黄韬,周尧和,胡壮麒."稳态层片共晶长生模型——Ⅰ.理论分析".自然科学进展 .6(1996):44-49.
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