| 溶液温度对电化学沉积氧化亚铜薄膜相成分和显微结构的影响 | |
| 周延春 | |
| 1996-10-25 | |
| 发表期刊 | 材料研究学报
 |
| 期号 | 5页码:512-516 |
| 摘要 | 用电化学方法在不锈钢基体上沉积了多晶Ｃｕ２Ｏ薄膜并用Ｘ射线衍射和扫描电镜进行了分析．研究了溶液温度对薄膜相组成、晶粒尺寸和择优取向的影响当溶液的ｐＨ＝９、温度低于５０℃时得到的是Ｃｕ２Ｏ／Ｃｕ复相薄膜，纯Ｃｕ２Ｏ薄膜可在溶液温度高于５０℃时获得纯Ｃｕ２Ｏ薄膜具有（１００）择优取向实验发现薄膜的晶粒尺寸随溶液温度的增加从０．１２μｍ增加到０．６５μｍ。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所 |
| 关键词 | Cu_2o 电化学沉积 薄膜 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27957 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周延春. 溶液温度对电化学沉积氧化亚铜薄膜相成分和显微结构的影响[J]. 材料研究学报,1996(5):512-516. |
| APA | 周延春.(1996).溶液温度对电化学沉积氧化亚铜薄膜相成分和显微结构的影响.材料研究学报(5),512-516. |
| MLA | 周延春."溶液温度对电化学沉积氧化亚铜薄膜相成分和显微结构的影响".材料研究学报 .5(1996):512-516. |
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