| Ti－N隔层厚度对Fe－N／Ti－N纳米多层膜磁性的影响 |
| 王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时
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| 1995-10-20
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| 发表期刊 | 金属功能材料
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| 期号 | Z1页码:142-146 |
| 摘要 | 用磁控溅射技术成功的制备了Ｆｅ－Ｎ／Ｔｉ－Ｎ纳米多层膜．Ｆｅ－Ｎ层厚度固定为２．２ｎｍ，Ｔｉ－Ｎ层厚度在０．５ｎｍ和４．６ｎｍ之间依次变化．由Ｘ射线衍射结果发现样品中有Ｆｅ１６Ｎ２相存在，发现Ｔｉ－Ｎ层厚度的变化，对剩磁比、饱和外场、矫顽力、饱和磁化强度（ＭＳ）有很大影响，Ｆｅ－Ｎ层之间有铁磁耦合和反铁磁耦合变化． |
| 部门归属 | 北京科技大学材料物理系，中国科学院金属研究所
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| 关键词 | Fe－n／ti－n多层膜
层间耦合
Fe＿（16）n＿2
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28142
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时. Ti－N隔层厚度对Fe－N／Ti－N纳米多层膜磁性的影响[J]. 金属功能材料,1995(Z1):142-146.
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| APA |
王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时.(1995).Ti－N隔层厚度对Fe－N／Ti－N纳米多层膜磁性的影响.金属功能材料(Z1),142-146.
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| MLA |
王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时."Ti－N隔层厚度对Fe－N／Ti－N纳米多层膜磁性的影响".金属功能材料 .Z1(1995):142-146.
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