| Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究 |
| 王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美
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| 1995-08-15
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| 发表期刊 | 真空科学与技术
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| 期号 | 4页码:288-290 |
| 摘要 | 用磁控溅射技术制备了周期性良好的Fe－N／Ti-N纳米多层膜。Ti-N单层的厚度固定为3nm，Fe－N单层的厚度在2．5～11nm之间变化。用振动样品磁强计研究了样品的磁性，用X射线衍射研究了样品的结构。发现在Fe－N层较薄的样品中，饱和磁化强度明显提高，而矫顽力在所有样品中基本相同。 |
| 部门归属 | 北京科技大学材料物理系!北京100083,北京科技大学材料物理系!北京100083,北京科技大学材料物理系!北京100083中国科学院金属研究所沈阳110015,北京科技大学材料物理系!北京100083,北京科技大学材料物理系!北京100083
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| 关键词 | Fe－n／ti－n
纳米多层膜
磁控溅射
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28173
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美. Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究[J]. 真空科学与技术,1995(4):288-290.
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| APA |
王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美.(1995).Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究.真空科学与技术(4),288-290.
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| MLA |
王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美."Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究".真空科学与技术 .4(1995):288-290.
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