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用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须
李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒
1995-04-25
发表期刊材料研究学报
期号2页码:149-152
摘要采用激光诱导有机硅烷气相合成的纳米非晶Si/N/C粉为原料,在1600℃,101.3kPaN2气下,在石墨感应炉中原位制备出α-Si3N4晶须,其直径为0.1-0.5μm,长可达几毫米,纯度较高,无过剩碳及金属杂质
部门归属中国科学院金属研究所快速凝固非平衡合金国家实验室,中国科学院金属研究所微晶与激光加工研究室
关键词Si_3n_4 晶须 纳米粉 非晶 Si/n/c
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28238
专题中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒. 用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须[J]. 材料研究学报,1995(2):149-152.
APA 李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒.(1995).用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须.材料研究学报(2),149-152.
MLA 李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒."用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须".材料研究学报 .2(1995):149-152.
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