透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术

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	透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术
	马淑波
	1995-02-15
发表期刊	物理测试
期号	1 页码:42-45
摘要	<正> 1 前言透射电子显微镜的研究工作能否顺利地达到预期目的,也就是说所观察的样品是否有足够的薄区并能反映大块材料中的微观结构和获得好的透射电镜照片,其关键就是能否具有好的透射电镜样品。因此,寻求理想的样品制备技术是至关重要的。目前制备金属薄膜样品应用最广泛的是双喷电解抛光技术;对于脆性或非导电性质的材料多应用离子减薄技术,本文就此两顶技术讨论如下。
部门归属	中国科学院金属研究所沈阳 110015
关键词	透射电子显微镜:6629 样品制备技术:4444 电解抛光:3518 电解液:2607 金属薄膜样品:2482 离子减薄:2072 离子束:1579 穿透深度:1327 电火花切割:1135 电解槽:1053
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28283
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	马淑波. 透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术[J]. 物理测试,1995(1):42-45.
APA	马淑波.(1995).透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术.物理测试(1),42-45.
MLA	马淑波."透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术".物理测试 .1(1995):42-45.