| 反应热压NiAl－TiB＿2复合材料界面结构研究 |
| 戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭
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| 1994-12-25
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| 发表期刊 | 电子显微学报
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| 期号 | 6页码:467 |
| 摘要 | 反应热压ＮｉＡｌ－ＴｉＢ＿２复合材料界面结构研究戴吉岩，李斗星，叶恒强，邢占平，郭健亭（中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室，沈阳１１００１５）Ｂ２型ＮｉＡｌ金属间化合物由于具有高熔点（１６４０℃），低密度（５．８６ｇ／ｃｍ￣３），以及极佳的... |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室
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| 关键词 | 复合材料界面:7515
反应热压:5998
高分辨像:1379
Nial:1309
非晶层:1034
高分辨电子显微镜:884
金属间化合物:775
界面相:739
计算机模拟:688
结构研究:663
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28300
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭. 反应热压NiAl－TiB＿2复合材料界面结构研究[J]. 电子显微学报,1994(6):467.
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| APA |
戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭.(1994).反应热压NiAl－TiB＿2复合材料界面结构研究.电子显微学报(6),467.
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| MLA |
戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭."反应热压NiAl－TiB＿2复合材料界面结构研究".电子显微学报 .6(1994):467.
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