氮化硅晶须的制备与显微结构 | |
周延春,陈声崎,夏非 | |
1994-05-30 | |
发表期刊 | 人工晶体学报
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期号 | 2页码:151-155 |
摘要 | 本文通过对Si-C-N-O系统的热力学分析,利用SiO_2和石墨为原料分别在1200~1300℃和1250~1400℃流动N_2气氛中制备了α-Si_3N_4晶须和β-Si_3N_4晶须。并对Si_3N_4晶须的合成反应机理进行了讨论。 |
部门归属 | 中国科学院金属研究所 |
关键词 | 氮化硅 晶须 晶须生长 显微结构 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28435 |
专题 | 中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 周延春,陈声崎,夏非. 氮化硅晶须的制备与显微结构[J]. 人工晶体学报,1994(2):151-155. |
APA | 周延春,陈声崎,夏非.(1994).氮化硅晶须的制备与显微结构.人工晶体学报(2),151-155. |
MLA | 周延春,陈声崎,夏非."氮化硅晶须的制备与显微结构".人工晶体学报 .2(1994):151-155. |
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