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氮化硅晶须的制备与显微结构
周延春,陈声崎,夏非
1994-05-30
发表期刊人工晶体学报
期号2页码:151-155
摘要本文通过对Si-C-N-O系统的热力学分析,利用SiO_2和石墨为原料分别在1200~1300℃和1250~1400℃流动N_2气氛中制备了α-Si_3N_4晶须和β-Si_3N_4晶须。并对Si_3N_4晶须的合成反应机理进行了讨论。
部门归属中国科学院金属研究所
关键词氮化硅 晶须 晶须生长 显微结构
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28435
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
周延春,陈声崎,夏非. 氮化硅晶须的制备与显微结构[J]. 人工晶体学报,1994(2):151-155.
APA 周延春,陈声崎,夏非.(1994).氮化硅晶须的制备与显微结构.人工晶体学报(2),151-155.
MLA 周延春,陈声崎,夏非."氮化硅晶须的制备与显微结构".人工晶体学报 .2(1994):151-155.
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