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用高分辨透射电镜对MOCVD生长的ZnSe_(1-x)S_x-ZnSe应变超晶格结构的研究
宋士惠,关郑平,范广涵,范希武,彭应国,吴玉琨
1994-03-15
发表期刊发光学报
期号1页码:1-8
摘要本文利用高分辨电子显微镜(TEM)从原子尺度对MOCVD生长的ZnSe_(1-x)S_x-Znse应变超晶格的精细结构进行了细致观察.通过对缺陷的种类、分布的分析提出缺陷的产生原因与过渡层质量有直接关系,通过改善过渡层的成份及各层间的厚度可制备出结构较完整以及较平整的超晶格薄层材料.
部门归属中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 长春130021,长春130021,长春130021,长春130021,沈阳110015,沈阳110015
关键词超晶格 高分辨透射电镜 缺陷
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28464
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
宋士惠,关郑平,范广涵,范希武,彭应国,吴玉琨. 用高分辨透射电镜对MOCVD生长的ZnSe_(1-x)S_x-ZnSe应变超晶格结构的研究[J]. 发光学报,1994(1):1-8.
APA 宋士惠,关郑平,范广涵,范希武,彭应国,吴玉琨.(1994).用高分辨透射电镜对MOCVD生长的ZnSe_(1-x)S_x-ZnSe应变超晶格结构的研究.发光学报(1),1-8.
MLA 宋士惠,关郑平,范广涵,范希武,彭应国,吴玉琨."用高分辨透射电镜对MOCVD生长的ZnSe_(1-x)S_x-ZnSe应变超晶格结构的研究".发光学报 .1(1994):1-8.
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