| 多种陶瓷基材上金刚石膜的沉积 |
| 陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪
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| 1993-06-30
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发表期刊 | 硅酸盐学报
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期号 | 3页码:203-207 |
摘要 | 用热丝法在Si_3N_4,AlN,sialon陶瓷基材上沉积了金刚石薄膜。沉积参数与在单晶硅上沉积金刚石基本一致.沉积速率为1μm/h。用X射线衍射和Raman光谱检测了所形成的膜。用划痕实验估测膜基附着力。结果表明:在Si_3N_4和sialon陶瓷基材上附着力较好;随金刚石膜厚增长,膜基附着力下降。 |
部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
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关键词 | 热丝法
陶瓷基材
临界载荷
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文献类型 | 期刊论文
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条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28592
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专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪. 多种陶瓷基材上金刚石膜的沉积[J]. 硅酸盐学报,1993(3):203-207.
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APA |
陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪.(1993).多种陶瓷基材上金刚石膜的沉积.硅酸盐学报(3),203-207.
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MLA |
陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪."多种陶瓷基材上金刚石膜的沉积".硅酸盐学报 .3(1993):203-207.
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