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离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构
孙东升,李凤照,戴吉岩,李斗星
1993-05-31
发表期刊金属学报
期号5页码:11-15
摘要采用高分辨电子显微镜研究了离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构结果表明,高速离子的持续轰击将导致大量空位点缺陷的产生,空位的聚合形成空位盘,空位盘的崩塌形成扩展位错,层错四面体等晶体缺陷ε(Fe_(2-3)N)和γ'(Fe_4N)相界面平直、共格,且具有:(111)∥(0001)_ε,[110]γ'∥[1120]_ε的取向关系
部门归属山东工业大学材料工程研究所,山东工业大学,中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室,中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室 副教授,济南250014,中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室
关键词晶体缺陷 界面结构 离子渗氮
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28603
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
孙东升,李凤照,戴吉岩,李斗星. 离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构[J]. 金属学报,1993(5):11-15.
APA 孙东升,李凤照,戴吉岩,李斗星.(1993).离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构.金属学报(5),11-15.
MLA 孙东升,李凤照,戴吉岩,李斗星."离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构".金属学报 .5(1993):11-15.
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