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电弧等离子射流蒸发反应法制备碳化硅基超微粉
黄荣芳,林成福
1992-06-29
发表期刊粉末冶金技术
期号3页码:178-181
摘要分析了SiC+C、SiC+Si等超微颗粒的形貌、粒度大小及分布和晶体结构。讨论了等离子弧电流I_T和I_J对超微粉粒度的影响。
部门归属中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 沈阳 110015,沈阳 110015
关键词电弧等离子射流 蒸发反应法 超微粉末
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28816
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
黄荣芳,林成福. 电弧等离子射流蒸发反应法制备碳化硅基超微粉[J]. 粉末冶金技术,1992(3):178-181.
APA 黄荣芳,林成福.(1992).电弧等离子射流蒸发反应法制备碳化硅基超微粉.粉末冶金技术(3),178-181.
MLA 黄荣芳,林成福."电弧等离子射流蒸发反应法制备碳化硅基超微粉".粉末冶金技术 .3(1992):178-181.
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