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真空电弧等离子射流蒸发法沉积超微粉
林成福,黄荣芳,俞兵,钱声伟,关侃
1991-12-27
发表期刊材料科学进展
期号6页码:489-493
摘要在真空电弧等离子喷涂设备上设计安装了超微粉的制备装置。制备出 Fe,Si,Ni,Mo,TiAl,Ti_3Al 和 Si_3N_4等超微粉。通过控制真空室工作压力和等离子弧电流,超微粉的粒度可分别为5,10,20和50nm。观察了粉的形状、分布,测试了沉积速率。
部门归属中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
关键词等离子射流 蒸发 超微粉
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28910
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
林成福,黄荣芳,俞兵,钱声伟,关侃. 真空电弧等离子射流蒸发法沉积超微粉[J]. 材料科学进展,1991(6):489-493.
APA 林成福,黄荣芳,俞兵,钱声伟,关侃.(1991).真空电弧等离子射流蒸发法沉积超微粉.材料科学进展(6),489-493.
MLA 林成福,黄荣芳,俞兵,钱声伟,关侃."真空电弧等离子射流蒸发法沉积超微粉".材料科学进展 .6(1991):489-493.
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