| 磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究 |
| 张鸿天,柏森,方光旦
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| 1989-12-31
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| 发表期刊 | 应用科学学报
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| 期号 | 4页码:371-373 |
| 摘要 | <正>存贮位密度是磁盘的主要性能指标之一.由经典公式知道,位密度D满足下面关系:1/D～((a+h)~2+(g/2)~2)~(1/2)式中a和g分别由磁层的特性和磁头的结构所决定.因此,提高磁盘存贮的位密度,降低磁头的浮动高度h是重要手段之一.事实上,经严格抛光处理的磁盘表面,仍存在着妨碍磁头浮动高度降低的小突起.它们非常细小,以至用常规方法很难检测.有人曾研究用声发射方法进行检测. |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院计算技术研究所
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| 关键词 | 声发射:6105
磁盘表面:5201
磁头:3413
小突起:3076
力学特性:2811
位密度:1636
铲头:1163
磁盘机:998
声发射方法:925
严格抛光:874
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29173
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张鸿天,柏森,方光旦. 磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究[J]. 应用科学学报,1989(4):371-373.
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| APA |
张鸿天,柏森,方光旦.(1989).磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究.应用科学学报(4),371-373.
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| MLA |
张鸿天,柏森,方光旦."磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究".应用科学学报 .4(1989):371-373.
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