无压烧结Si_3N_4与表面镀钛膜之间的固态化学反应过程

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	无压烧结Si_3N_4与表面镀钛膜之间的固态化学反应过程
	冼爱平,斯重遥
	1989-12-15
发表期刊	金属学报
期号	6 页码:143-145
摘要	用X射线衍射技术研究了在Si_3N_4陶瓷与表面镀钛膜之间的固态化学反应过程,当反应温度不超过973K时,Ti与Si_3N_4之间不反应;温度在1073—1123K时,反应产物为Ti_2N和Ti_5Si_3,温度达到1173K时,反应产物为TiN和Ti_5Si_4,温度达到1273K时,反应产物为TiN和Ti_5Si_4。在整个反应过程中,Si_3N_4陶瓷基体相的晶格常数未发生变化,说明Ti原子不能溶入Si_3N_4陶瓷的晶格之中。
部门归属	中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所研究实习员,沈阳(110015)
关键词	钛氮化硅界面固态反应
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29194
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	冼爱平,斯重遥. 无压烧结Si_3N_4与表面镀钛膜之间的固态化学反应过程[J]. 金属学报,1989(6):143-145.
APA	冼爱平,斯重遥.(1989).无压烧结Si_3N_4与表面镀钛膜之间的固态化学反应过程.金属学报(6),143-145.
MLA	冼爱平,斯重遥."无压烧结Si_3N_4与表面镀钛膜之间的固态化学反应过程".金属学报 .6(1989):143-145.