| 热浸Al-Si渗层的组织分析 | |
| 李翠屏,刘兴志,田继丰,高允彦 | |
| 1989-10-15 | |
| 发表期刊 | 金属学报
 |
| 期号 | 5页码:72-75 |
| 摘要 | 用扫描电镜、电子探针和X射线衍射方法对热浸Al-Si渗层的组织进行了化学成分和结构分析,探讨了形成机制。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,东北工学院 工程师,沈阳(110015) |
| 关键词 | 热浸渗铝 渗层结构分析 Al-si渗层 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29205 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李翠屏,刘兴志,田继丰,高允彦. 热浸Al-Si渗层的组织分析[J]. 金属学报,1989(5):72-75. |
| APA | 李翠屏,刘兴志,田继丰,高允彦.(1989).热浸Al-Si渗层的组织分析.金属学报(5),72-75. |
| MLA | 李翠屏,刘兴志,田继丰,高允彦."热浸Al-Si渗层的组织分析".金属学报 .5(1989):72-75. |
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