| Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察 |
| 万立骏; 陈宝清; 郭可信
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| 1988-06-29
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| 发表期刊 | 金属学报
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| 期号 | 6页码:443-446 |
| 摘要 | 利用横截面电镜样品,对Ni基体磁控溅射离子镀Al膜进行了透射电镜观察。研究了不同工艺条件下镀膜的组织形态,相结构以及相分布。镀覆5min时,在Ni基体和镀Al膜交界处,发现一个Al-Ni系中迄今未见报道的未知相。经电子衍射分析其为体心四方点阵,a=b=0.588nm,c=0.480nm。研究了随时间变化的镀膜组织结构变化情况。 |
| 部门归属 | 大连海运学院材料工艺研究所,大连工学院,中国科学院金属研究所,
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| 关键词 | 磁控溅射
离子镀
微观结构
镀膜
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29333
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
万立骏,陈宝清,郭可信. Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察[J]. 金属学报,1988(6):443-446.
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| APA |
万立骏,陈宝清,&郭可信.(1988).Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察.金属学报(6),443-446.
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| MLA |
万立骏,et al."Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察".金属学报 .6(1988):443-446.
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