| 等离子喷涂钴包碳化钨涂层显微结构的研究 |
| 周序科; 闻立时; 关侃
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| 1988-03-01
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| 发表期刊 | 粉末冶金技术
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| 期号 | 1页码:25-31 |
| 摘要 | 利用x—衍射、扫描电镜、透射电镜、金相等物理实验方法,研究了低压等离子和大气等离子喷涂钴包碳化钨涂层的显微组织结构,并讨论了致密化机理。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,
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| 关键词 | 低压等离子喷涂:5258
显微结构:3582
低压喷涂:3511
耐磨涂层:3375
碳化钨颗粒:3329
钴包碳化钨涂层:2595
大气等离子喷涂:2166
包覆层:2127
碳化物:2110
结合强度:2072
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29385
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
周序科,闻立时,关侃. 等离子喷涂钴包碳化钨涂层显微结构的研究[J]. 粉末冶金技术,1988(1):25-31.
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| APA |
周序科,闻立时,&关侃.(1988).等离子喷涂钴包碳化钨涂层显微结构的研究.粉末冶金技术(1),25-31.
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| MLA |
周序科,et al."等离子喷涂钴包碳化钨涂层显微结构的研究".粉末冶金技术 .1(1988):25-31.
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