| 等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用 | |
| 闻立时 | |
| 1987-04-01 | |
| 发表期刊 | 物理
 |
| 期号 | 3页码:157-160 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所 |
| 关键词 | 气体放电等离子体:7619 薄膜技术:3488 Pacvd:3188 离子镀:2433 溅射:1853 气相沉积:1770 沉积温度:1548 科学技术:1478 体表面:1197 粒子:1044 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29500 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻立时. 等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用[J]. 物理,1987(3):157-160. |
| APA | 闻立时.(1987).等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用.物理(3),157-160. |
| MLA | 闻立时."等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用".物理 .3(1987):157-160. |
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