| 热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用 |
| 赵凤鸣; 黄运衡
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| 1986-10-28
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| 发表期刊 | 硅酸盐通报
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| 期号 | 5页码:28-33 |
| 摘要 | <正> 一、序言热解氮化硼(Pyrolytic Boron Nitride,简称PBN)是特种陶瓷材料,有各向异性和各向同性之分。据文献报导,前者用途较广,而后者尚限于几方面的应用。本文研究前者。PBN材料,从资料推测在六十年代末、七十年代初期,国外从研究已进入生产阶段。开始有商品出售。如今已广泛地用于宇航、电子、电工、化工、冶金、医疗等各领域。由于它的物理和化学性能比较稳定,真空性能好,在半导体材料的制备上有 |
| 部门归属 | 中科院金属所,中科院半导体所,
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| 关键词 | 分子束外延:7080
氮化硼:3372
真空性能:3096
物理和化学性能:2656
七十年:2046
热解:2038
六十年代:1912
陶瓷材料:1835
单晶薄膜:1815
喷射炉:1784
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29551
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
赵凤鸣,黄运衡. 热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用[J]. 硅酸盐通报,1986(5):28-33.
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| APA |
赵凤鸣,&黄运衡.(1986).热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用.硅酸盐通报(5),28-33.
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| MLA |
赵凤鸣,et al."热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用".硅酸盐通报 .5(1986):28-33.
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