| 离子镀 Ti-N 涂层界面结构的电镜研究 |
| 闻立时,姜辛,斯重遥,陈朗,赵庆海
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| 1986-07-02
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| 发表期刊 | 无机材料学报
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| 期号 | 2页码:153-159 |
| 摘要 | 采用透射电镜及 μ-μ-Diff.技术,通过对平行和垂直基体表面薄膜试样的观察,确定了离子镀 Ti-N 涂层中 α-Fe 基材—α-Ti 底层及 α-Ti 底层—TiN 层之间 FeTi、Ti_2N 界面相的存在。进一步的 μ-μ-Diff.分析,得到了α-Fe-FeTi、FeTi-α-Ti、α-Ti-Ti_2N、Ti_2N-TiN 各相间的取向关系。并由此推断了涂层相界的原子排列结构。最后,简单地讨论了界面相的形成机制及其对界面结合强度的作用。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,辽宁省理化测试中心,辽宁省理化测试中心
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| 关键词 | 离子镀
涂层
界面结构
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29577
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
闻立时,姜辛,斯重遥,陈朗,赵庆海. 离子镀 Ti-N 涂层界面结构的电镜研究[J]. 无机材料学报,1986(2):153-159.
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| APA |
闻立时,姜辛,斯重遥,陈朗,赵庆海.(1986).离子镀 Ti-N 涂层界面结构的电镜研究.无机材料学报(2),153-159.
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| MLA |
闻立时,姜辛,斯重遥,陈朗,赵庆海."离子镀 Ti-N 涂层界面结构的电镜研究".无机材料学报 .2(1986):153-159.
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