IMR OpenIR
电沉积Ni-P合金结构的研究
林树智,黑祖昆
1984-03-31
Source Publication物理学报
Issue3Pages:302-308
Abstract本文用X射线衍射方法研究电沉积Ni-P合金的结构。研究表明:当P含量小于5.4at% 时合金为P在Ni中的过饱和固溶体;当P含量大于7.8at%时结构发生明显变化,衍射花样可 解释成一些大小为6—8的密堆小片。它们作平行而无规的相对错动,片间距为2.04,堆 垛成小柱状,柱高随含P量的增高而减小,从含P为7.8%时的124降到含P为18%时的 13,成为典型的非晶态合金的衍射花样。 利用{lll}谱线的强度比,或者用原子径向分布函数的峰形和峰高,估算出原子偏离平衡 位置的均方根值为0.17.由于这些扭曲,使层间距在小于原子直径的情况下仍能实现片与 片间相对平行而无规的错动,而且使一个小柱能够直接过渡到另一个取向不同的小柱而无须 形成晶界。所以样品是一个连续分布的整体而不是一个微晶的集合体。 另外,还测量了{lll}谱线不同衍射级的宽度。发现β_(111)/β_(222)
description.department中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
KeywordP量:5895 电沉积:4721 Ni-p合金:4456 原子直径:2013 Ni—p合金:1993 峰位:1928 堆垛:1829 衍射图样:1789 非晶合金:1569 非晶态合金:1524
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29785
Collection中国科学院金属研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
林树智,黑祖昆. 电沉积Ni-P合金结构的研究[J]. 物理学报,1984(3):302-308.
APA 林树智,黑祖昆.(1984).电沉积Ni-P合金结构的研究.物理学报(3),302-308.
MLA 林树智,黑祖昆."电沉积Ni-P合金结构的研究".物理学报 .3(1984):302-308.
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