| 掺杂钨丝熔断过程的研究 |
| 钱知强,王素兰
|
| 1982-05-31
|
| 发表期刊 | 金属学报
 |
| 期号 | 5页码:540-543+635-636 |
| 摘要 | 用金相观察了掺杂钨丝和纯钨丝在通电加热熔断断口处的孔洞结构。残留在钨丝中的钾对孔洞的生成起主要的作用。孔洞的形成和长大先是钾原子向晶界聚集,然后失去了钾原子的钾泡在高温下分解成空位和空位群,这些空位和空位群在晶体点阵中迁移,并向有钾原子聚集的晶界会合,才形成了一系列大小不等的孔洞。孔洞的生成导致局部地区的温度过高而熔断。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
|
| 关键词 | 温度过高:6464
掺杂钨丝:4092
表面张力:2897
钾原子:2893
温度梯度:2800
大孔洞:2378
表面能:1692
实验:1682
熔断:1678
空位:1634
|
| 文献类型 | 期刊论文
|
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29908
|
| 专题 | 中国科学院金属研究所
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
钱知强,王素兰. 掺杂钨丝熔断过程的研究[J]. 金属学报,1982(5):540-543+635-636.
|
| APA |
钱知强,王素兰.(1982).掺杂钨丝熔断过程的研究.金属学报(5),540-543+635-636.
|
| MLA |
钱知强,王素兰."掺杂钨丝熔断过程的研究".金属学报 .5(1982):540-543+635-636.
|
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论