| 镍清洁表面制备中去除碳的一种简便方法 |
| 李日升,张文林,谢天生,孙玉珍
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| 1980-04-30
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| 发表期刊 | 物理学报
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| 期号 | 4页码:529-532 |
| 摘要 | 单用氩离子剥离很难完全去掉镍表面上的碳。在10~(-8)—10~(-9)托下用电子轰击加速氧的吸附,使残留着碳的镍表面吸附一定的氧;再将这个表面加热到360℃保温45分钟,获得了一个无碳的原子级清洁表面。讨论了利用氧去除碳的条件和机制。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
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| 关键词 | 清洁表面:6385
除碳:5107
简便方法:3386
电子伏特:2112
氩离子:2068
俄歇谱:1996
氧的吸附:1771
单晶表面:1458
金属研究所:1426
碳和氧:1279
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/30027
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
李日升,张文林,谢天生,孙玉珍. 镍清洁表面制备中去除碳的一种简便方法[J]. 物理学报,1980(4):529-532.
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| APA |
李日升,张文林,谢天生,孙玉珍.(1980).镍清洁表面制备中去除碳的一种简便方法.物理学报(4),529-532.
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| MLA |
李日升,张文林,谢天生,孙玉珍."镍清洁表面制备中去除碳的一种简便方法".物理学报 .4(1980):529-532.
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