| 电弧离子镀沉积磁性薄膜的研究 | |
| 常正凯; 肖金泉; 陈育秋; 刘山川; 宫骏; 孙超 | |
| 2012-05-11 | |
| Source Publication | 金属学报
 |
| Issue | 5Pages:547-554 |
| Abstract | 研究了电弧离子镀磁性靶材使用过程中发生"跑弧"并导致靶材无法稳定刻蚀的问题.利用有限元方法(FEM)对外加磁场下非磁性靶材系统和磁性靶材系统中的磁场分布进行了模拟.研究了外磁场对电弧斑点运动的影响机理,并结合电弧斑点放电的物理机制,探讨了磁性靶材与低饱和蒸气压金属靶壳、绝缘陶瓷靶壳或软磁性金属靶壳组成复合结构靶材解决磁性靶材使用问题的可行性.结果表明,这3种复合结构靶材设计方案均能有效解决电弧离子镀磁性靶材"跑弧"问题.通过实验得到,在低饱和蒸气压金属或绝缘陶瓷靶壳设计方案里,靶材频繁引弧到弧斑能受控运动的转变温度为(136.6±23.0)℃. |
| description.department | 中国科学院金属研究所; |
| Keyword | 电弧离子镀 磁性材料 有限元方法 磁场分布 复合结构靶材 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/60610 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 常正凯,肖金泉,陈育秋,等. 电弧离子镀沉积磁性薄膜的研究[J]. 金属学报,2012(5):547-554. |
| APA | 常正凯,肖金泉,陈育秋,刘山川,宫骏,&孙超.(2012).电弧离子镀沉积磁性薄膜的研究.金属学报(5),547-554. |
| MLA | 常正凯,et al."电弧离子镀沉积磁性薄膜的研究".金属学报 .5(2012):547-554. |
| Files in This Item: | There are no files associated with this item. | |||||
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment