Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响

IMR OpenIR

	Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响
	时婧; 裴志亮; 宫骏; 孙超; MUDERS C M; 姜辛
	2012-11-11
发表期刊	金属学报
期号	11 页码:1349-1356
摘要	利用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜,研究了Si含量对薄膜组织结构以及力学性能的影响.结果表明,Ti-Al-Si-N薄膜主要由晶态TiAlN和非晶态的Si_3N_4组成,随着Si含量的增加,XRD衍射峰强度减弱,晶粒尺寸减小;薄膜的显微组织也由明显的柱状晶转变为致密的纳米晶结构.利用纳米硬度仪对薄膜的硬度和弹性模量进行了分析,结果表明,薄膜的硬度和弹性模量有着相似的变化趋势,随着Si含量的增加,两者都先增加,当Si含量达到一定程度时.它们会逐渐稳定在一定范围内,而后又随Si含量的继续增加呈下降趋势.通过划痕测试对薄膜结合强度进行了分析,结果表明,薄...
部门归属	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;Institute of Materials Engineering;University of Siegen;Paul-Bonatz-Strasse 9-11;Siegen 57076;Germany;
关键词	磁过滤电弧离子镀 Ti-al-si-n薄膜纳米硬度结合强度
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/60737
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	时婧,裴志亮,宫骏,等. Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响[J]. 金属学报,2012(11):1349-1356.
APA	时婧,裴志亮,宫骏,孙超,MUDERS C M,&姜辛.(2012).Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响.金属学报(11),1349-1356.
MLA	时婧,et al."Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响".金属学报 .11(2012):1349-1356.