| 低温渗铬涂层及其制备方法和应用 | |
| 彭晓, 张海媛 and 王福会 | |
| 2007-04-18 | |
| 专利权人 | 中国科学院金属研究所 |
| 公开日期 | 2007-04-18 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 本发明公开一种涂层制备技术,具体地说是两步法低温渗铬涂层及其制备方 法和应用。渗铬涂层成分由渗入的铬和来自复合镀层金属M及少量稀土氧化物组 成,其中稀土氧化物RexOy为Re＝Ce、Y、La等,按质量份数计,渗铬涂层中表 面层中铬含量为50～90份,其余为M和微量稀土元素氧化物,其中M来自M-RexOy 复合镀层。制备过程如下：以金属Ni、Fe或Co、碳钢或低合金钢为基材,在基 材上采用复合电镀方法制得纳米晶的M-RexOy... |
| 语种 | 中文 |
| 专利状态 | 公开 |
| 申请号 | CN1948554 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/65911 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 彭晓, 张海媛 and 王福会. 低温渗铬涂层及其制备方法和应用[P]. 2007-04-18. |
| 条目包含的文件 | 条目无相关文件。 | |||||
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