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瞬间液相扩散连接三元层状陶瓷钛硅化碳工艺
尹孝辉, 李美栓 and 周延春
2008-01-02
专利权人中国科学院金属研究所
公开日期2008-01-02
授权国家中国
专利类型发明专利
摘要本发明涉及陶瓷连接技术,具体为一种三元层状陶瓷Ti3SiC2瞬间液相扩散连 接新工艺。该工艺的特点是界面生成耐高温的Ti3Si(Al)C2固溶体,无脆性相生成, 解决了三元层状陶瓷Ti3SiC2连接质量不高的技术问题。在待焊三元层状陶瓷 Ti3SiC2之间加入铝箔,其厚度在50-100μm之间,将试件置于热压炉内,通氩气 保护。首先在600-650℃、压力为10-20MPa下恒压保温10-...
语种中文
专利状态公开
申请号CN101096316
文献类型专利
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/66330
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
尹孝辉, 李美栓 and 周延春. 瞬间液相扩散连接三元层状陶瓷钛硅化碳工艺[P]. 2008-01-02.
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