| 透射电镜用薄膜样品的制备方法 |
| 马爱华, 于洪波, 刘实, 郑华, 张滨 and 王隆保
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| 2005-11-16
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| 专利权人 | 中国科学院金属研究所
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| 公开日期 | 2005-11-16
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明专利
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| 摘要 | 本发明公开了一种透射电镜用薄膜样品的制备方法,具体步骤为：1)利用磁 控溅射方法镀制金属或合金膜,磁控溅射以合金靶为负极,衬底为正极,背底真 空度2.0～8.0×10-5Pa；气氛为Ar气氛,真空度6.5～7.5×10-1Pa；电流0.5～2A； 电压100～300V；2)在金属或合金膜上冲出圆片；3)将圆片进行双喷减薄或者 离子减薄制得电镜观察用的样品。本发明采用磁控溅射的方法,可以获得均匀、 致密、易剥离的金属或合金膜,衬底上镀膜的厚度在5～9μm之间,可以直接将 磁控溅射镀膜与双喷减薄或者离子减薄... |
| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 公开
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| 申请号 | CN1696334
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/66367
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
马爱华, 于洪波, 刘实, 郑华, 张滨 and 王隆保. 透射电镜用薄膜样品的制备方法[P]. 2005-11-16.
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