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一种玻璃镀膜靶材及其制备方法
徐娜, 常新春, 侯万良, 张甲, 张春智, 张凤军, 王建强 and 全明秀
2011-04-20
专利权人中国科学院金属研究所
公开日期2011-04-20
授权国家中国
专利类型发明专利
摘要本发明涉及玻璃镀膜靶材制备领域,具体为一种玻璃镀膜靶材及其制备方法,解决磁控溅射玻璃镀膜靶材制备问题。该玻璃镀膜靶材采用的原材料为SiAl粉末,由纯Si粉和纯Al粉机械混合制得,混合粉末中各组元质量百分比及粒度为:Si粉85-95wt%,粒度45-125μm;Al粉5-15wt%,粒度30-100μm。该玻璃镀膜靶材采用常压等离子喷涂技术制备,制备工艺参数为:电流400-500A,电压45-58V,送粉量40-60g/min,送粉气流量5.0-7.0L/min,主气流量41-43L/min,主气压力0.45-0.55MPa,次气流量1.6-2.8L/min,次气压力0.25-0.35MPa,喷...
语种中文
专利状态公开
申请号CN102021515A
文献类型专利
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/66518
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
徐娜, 常新春, 侯万良, 张甲, 张春智, 张凤军, 王建强 and 全明秀. 一种玻璃镀膜靶材及其制备方法[P]. 2011-04-20.
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