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一种高强度、低热膨胀的A1N纳米线和A1复合材料
丛洪涛, 唐永炳 and 成会明
2008-09-03
专利权人中国科学院金属研究所
公开日期2008-09-03
授权国家中国
专利类型发明专利
摘要一种高强度、低热膨胀的AlN纳米线和Al复合材料,在纯度大于95% 的AlN纳米线的基础上,采用过Al熔点热压的办法制备出高致密度AlN纳 米线/Al复合材料,采用H2电弧法制备出平均粒径为80-120nm的Al纳米 颗粒;采用Al,AlCl3,Al2O3和NH3为反应物,通过气相CVD法在石英基板 上沉积出克量级的AlN纳米纤维,其为纯度高于95%的单晶AlN纳米线, 直径分布在10-50nm之间,将体积组分为0~15%的AlN纳米线和Al纳米...
语种中文
专利状态公开
申请号CN101255538
文献类型专利
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/66854
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
丛洪涛, 唐永炳 and 成会明. 一种高强度、低热膨胀的A1N纳米线和A1复合材料[P]. 2008-09-03.
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