一种含有原位生成扩散障的复合涂层制备方法 | |
孙超, 马军, 姜肃猛, 宫骏, 李海庆, 王维新, 刘山川 and 闻立时 | |
2010-05-19 | |
专利权人 | 中国科学院金属研究所 |
公开日期 | 2010-05-19 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明专利 |
摘要 | 本发明涉及在高温合金基体上制备高温防护复合涂层的技术,具体地说是一种含有原位生成扩散障的复合涂层制备方法,它利用预先沉积的多层膜,结合相关的热处理制度,制备出一种能在高温条件下抑制涂层元素向基体扩散,从而提高涂层使用寿命的复合涂层。本发明的工艺流程是:先对高温合金基体进行预处理;再通过电镀工艺制备一层亚微米级的Re-Ni镀层;完成电镀后处理步骤后,在Re-Ni镀层之上依次沉积一层MCrAlY涂层和一层AlSiY涂层;最后对该多层膜进行相关热处理,在原Re-Ni镀层位置产生扩散障。本发明有效解决了高Re镀层的制备成本问题,通过简单的热处理即获得含有均匀、连续扩散障的复合涂层。 |
语种 | 中文 |
专利状态 | 公开 |
申请号 | CN101709470A |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/66975 |
专题 | 中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙超, 马军, 姜肃猛, 宫骏, 李海庆, 王维新, 刘山川 and 闻立时. 一种含有原位生成扩散障的复合涂层制备方法[P]. 2010-05-19. |
条目包含的文件 | 条目无相关文件。 |
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