一种塔式填充床式电解槽 | |
吕谦 and 罗琨 | |
1994-11-30 | |
专利权人 | 中国科学院金属研究所 |
公开日期 | 1994-11-30 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 实用新型 |
摘要 | 一种塔式填充床式电解槽,阴极为填充床式结构;阳极为多孔或网状结构,其特征在于:该电解槽由2~100个两组阳极、一组阴极构成的电解室竖直方向叠加串联组成;进出液口也设置在该方向。本实用新型可以用于直接电解处理堆浸液,并且成本低,适用于工业化生产。 |
语种 | 中文 |
专利状态 | 公开 |
申请号 | CN2183998 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/67509 |
专题 | 中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕谦 and 罗琨. 一种塔式填充床式电解槽[P]. 1994-11-30. |
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