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一种塔式填充床式电解槽
吕谦 and 罗琨
1994-11-30
专利权人中国科学院金属研究所
公开日期1994-11-30
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要一种塔式填充床式电解槽,阴极为填充床式结构;阳极为多孔或网状结构,其特征在于:该电解槽由2~100个两组阳极、一组阴极构成的电解室竖直方向叠加串联组成;进出液口也设置在该方向。本实用新型可以用于直接电解处理堆浸液,并且成本低,适用于工业化生产。
语种中文
专利状态公开
申请号CN2183998
文献类型专利
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/67509
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
吕谦 and 罗琨. 一种塔式填充床式电解槽[P]. 1994-11-30.
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