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一种向金属材料中引入氦的方法
刘实, 王隆保, 郑华, 马爱华, 于洪波 and 王贤艳
2004-11-24
专利权人中国科学院金属研究所
公开日期2004-11-24
授权国家中国
专利类型发明专利
摘要一种向金属材料中引入氦的方法,采用溅射镀膜技术,其特征在于:在镀膜的同时,向膜材表面注入低能氦离子束,离子束的能量低于1000eV。通过实施本发明的技术,较好地解决了向材料(膜材)中引入高浓度氦的问题。与传统方法相比,引入效率高,费用少,氦含量高。
语种中文
专利状态公开
申请号CN1548573
文献类型专利
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/67640
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘实, 王隆保, 郑华, 马爱华, 于洪波 and 王贤艳. 一种向金属材料中引入氦的方法[P]. 2004-11-24.
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