| 一种匀层喷涂装置 |
| 杨慧宾, 张炳春, 谭丽丽 and 李鑫
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| 2007-08-01
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专利权人 | 中国科学院金属研究所
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公开日期 | 2007-08-01
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授权国家 | 中国
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专利类型 | 实用新型
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摘要 | 本实用新型提供一种匀层喷涂装置,其特征在于:由离心部分和喷枪部分 组成,离心部分包括电机6、主轴2、回转盘1、自转传动机构3、旋转顶针4、 顶针5,主轴2立放,由电机6带动,回转盘1和自转传动机构3装在主轴2上, 回转盘1有三个同心支撑环,内环与中环上装有旋转顶针4,外环上装有顶针5, 主轴2通过自转传动机构3和回转盘1带动旋转顶针4高速自转和公转;喷枪 部分包括喷枪8、曲柄连杆机构,电机通过曲柄连杆机构带动喷枪8作匀速往复 运动。本实用新型提供的匀层喷涂装置,其优点在于:保持工件上涂层厚度均 匀;确保同批次工件的涂层具有一致性,结构简单... |
语种 | 中文
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专利状态 | 公开
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申请号 | CN2928268
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文献类型 | 专利
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条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/67809
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专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
杨慧宾, 张炳春, 谭丽丽 and 李鑫. 一种匀层喷涂装置[P]. 2007-08-01.
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