| 一种在SiC纤维表面沉积薄膜的装置 | |
| 肖金泉, 张露, 石南林, 宫骏 and 孙超 | |
| 2012-02-08 | |
| Rights Holder | 中国科学院金属研究所 |
| Date Available | 2012-02-08 |
| Country | 中国 |
| Subtype | 实用新型 |
| Abstract | 本实用新型涉及真空镀膜磁控溅射沉积技术,具体为一种在连续SiC纤维表面上沉积薄膜的装置,一方面在连续SiC纤维表面沉积出厚度均匀的薄膜；一方面解决沉积化合物薄膜靶材中毒的问题,实现沉积过程的连续性和稳定性。该装置设有靶材I、靶材II、工件转架、中频脉冲磁控溅射电源、磁控溅射真空室,工件转架置于磁控溅射真空室中,靶材I、靶材II在工件转架内外相对放置于磁控溅射真空室中,中频脉冲磁控溅射电源的阴极与靶材I相接,中频脉冲磁控溅射电源的阳极与靶材II相接。本实用新型通过调节磁控溅射装置中真空室内的气体流量、反应气体种类、溅射时间等,实现在连续SiC纤维表面沉积不同种类和不同厚度的金属或化合物薄膜,对S... |
| Language | 中文 |
| Status | 公开 |
| Application Number | CN202139478U |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/67810 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 肖金泉, 张露, 石南林, 宫骏 and 孙超. 一种在SiC纤维表面沉积薄膜的装置[P]. 2012-02-08. |
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